北京科技大学敖秀玮、清华大学孙文俊团队ES&T：222纳米远紫外光在卡马西平光降解过程中原位生成的活性氧——水分子的意外作用

北京科技大学敖秀玮和清华大学孙文俊团队在Environmental Science & Technology上发表了一篇关于222纳米远紫外光在卡马西平光降解过程中原位生成的活性氧的研究。该研究首次揭示了卡马西平在222 nm远紫外辐照下自由基产生和激发态失活的机理，为有机污染物在222 nm far-UVC的光解提供了有价值的见解。研究背景包括紫外线技术在水处理领域的应用进展，特别是222 nm far-UVC灯源在消毒和有机微污染物降解中的应用。研究目的在于探究卡马西平在222 nm far-UVC下的光降解动力学、激发态失活途径及反应物种形成，以及转化产物与降解路径的识别。结论指出，卡马西平在222 nm下的高效降解是由于原位生成的以•OH为主的ROS，且大量产生的ROS来源于单重激发态失活引起的自敏化光解作用。