光学精密工程·封面 | 均匀曝光：助力晶圆多区域飞拍成像

随着芯片制造工艺的进步，晶圆正向大尺寸和小晶粒发展，对飞拍成像技术的曝光控制提出了更高要求。晶圆各区域因材料、高度、面积及反光率的差异，导致曝光效果千差万别。如何在极短的成像时间内实现各区域间的均匀曝光一直是晶圆检测行业面临的主要难题。厦门大学刘暾东教授课题组提出了一种基于图像分区频率域评价的曝光控制方法，通过自适应分割、区域加权评价及参数快速搜索等技术，实现了晶圆飞拍成像系统中复杂晶圆的各区域均匀曝光。该方法不仅提高了调节速度，还改善了成像质量，为提升晶圆检测设备性能提供了强有力的技术支持。