ASML：中国芯片落后西方15年！

本文讨论了ASML首席执行官克里斯托夫·富凯关于中国半导体行业与西方技术差距的观点。背景方面，中国在半导体领域虽有进步，但在光刻技术，尤其是极紫外（EUV）光刻技术方面，仍落后于西方10到15年。研究目的方面，文章分析了中国无法获取EUV设备的原因，包括《瓦森纳协议》和美国的制裁，以及中国企业和研究机构如何应对这一挑战，包括自主研发EUV技术。结论方面，尽管中国在DUV光刻技术方面取得了一定成就，但要缩小与西方的技术差距，仍需大量时间和资源投入。同时，美国政府正施压ASML停止在中国维护DUV系统，而荷兰政府尚未同意这一要求。