原子级精度与强氧化结合：强氧化原子逐层外延技术拓展材料生长新空间 | NSR

本文介绍了南方科技大学物理系和粤港澳大湾区量子科学中心超导机理实验室研究团队开发的一种名为强氧化原子逐层外延（GOALL-Epitaxy）的新技术。该技术结合了氧化物分子束外延（OMBE）和脉冲激光沉积（PLD）的优点，在强氧化环境中实现原子级精度的材料生长。背景方面，过渡金属氧化物因其丰富的电子强关联物相而备受关注，但传统生长技术存在氧化能力不足或控制精度不够的问题。研究目的是开发一种能同时满足高氧化能力和原子级精度的材料生长技术。结论显示，GOALL-Epitaxy技术将氧化能力提升了3-4个数量级，成功生长了多种复杂镍氧化物和铜氧化物材料，包括高温超导体的母体结构，为探索新材料提供了更广阔的生长参数空间。