研究进展：金属-有机化学气相沉积MOCVD-二维材料 | Nature Reviews Methods Primers

背景：金属-有机化学气相沉积（MOCVD）是III-V半导体制造的核心技术，近年来扩展到二维材料合成领域。研究目的：系统阐述MOCVD技术在二维硫族化合物（特别是过渡金属二硫属元素化物）制备中的现代作用，包括实验装置、工艺条件和应用前景。结论：MOCVD已成为生产晶圆级高质量二维层和异质结构的关键技术，在3D集成电子、光电器件和柔性电子等领域展现出巨大应用潜力，是推动下一代半导体技术发展的重要工具。