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Nature Communications：铪基薄膜中单斜铁电变体的构筑

纳米人 2025-10-09 11:31

文章摘要

背景：铪基铁电材料因其与CMOS工艺兼容及纳米尺度强铁电性被视为下一代信息存储核心候选，但存在亚稳正交相易转变和非极性稳定相、多相纳米晶结构导致性能衰减等应用瓶颈。研究目的：通过异质结构对称性匹配，在Hf₀.₅Zr₀.₅O₂单晶薄膜中构筑稳定新型单斜铁电相，以提升抗疲劳性能和降低铁电翻转能耗。结论：成功稳定了新型极性单斜相（空间群Pc），其铁电翻转势垒仅为传统正交相的20%-50%，耐疲劳性能达10¹²次，为低功耗长寿命铁电器件研发提供了新路径。

Nature Communications：铪基薄膜中单斜铁电变体的构筑

查看文献： A stable monoclinic variant and resultant robust ferroelectricity in single-crystalline hafnia-based films.
查看期刊：Nature Communications

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