北大Nat.Commun.：冷冻电镜断层成像重构液态薄膜中的聚合物以实现兼容晶圆厂的光刻工艺

背景：光刻技术是半导体产业的核心工艺，但光刻胶在显影液中的微观行为长期难以观测，制约了先进制程的良率提升。研究目的：北京大学联合团队首次应用冷冻电镜断层扫描技术，原位解析光刻胶在液相环境中的三维结构和界面行为，探究其缺陷形成机理。结论：研究发现光刻胶聚合物倾向于在气液界面形成"凝聚缠结"团聚体，是缺陷主要来源；通过提高曝光后烘烤温度和优化显影工艺，成功将12英寸晶圆缺陷减少99%，为半导体制造提供了创新解决方案。