武汉理工大学《Nano Res.》：低方阻激光分步诱导石墨烯实现电磁屏蔽调控

背景：激光诱导石墨烯（LIG）技术可实现石墨烯的一步法图案化制备，但激光高能脉冲会产生大量结构缺陷，降低电学性能，传统修复方法会破坏基底或增加工艺复杂性。研究目的：武汉理工大学何大平教授课题组提出"激光分步诱导石墨烯（LSIG）"策略，通过"聚焦+离焦"激光组合修复缺陷并保持制备便捷性。结论：该方法使LIG方阻从25.3 Ω sq−1降至15.0 Ω sq−1，结晶度提升，构建的柔性频率选择表面在2~20 GHz波段实现有效电磁屏蔽，带宽达4.92 GHz，并具备红外隐身性能和良好稳定性，为LIG在电磁屏蔽等领域的实用化突破提供了新路径。