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浙大伍广朋、杭师大邱化玉 ACS Nano：兼具高稳定性和高灵敏度的极紫外和电子束倍半硅氧烷光刻胶

高分子科技 2025-10-31 11:11
文章摘要
本文针对芯片制造中光刻技术面临的挑战，背景是随着芯片特征尺寸持续微缩，极紫外光刻已成为7纳米及以下制程的核心方案，而多束电子束光刻因无衍射限制精度成为下一代技术竞争者。研究目的是开发兼具高分辨率、高灵敏度和优异储存稳定性的新型光刻胶材料。通过溶胶-凝胶反应和硅氢加成制备降冰片烯基与环氧改性的倍半硅氧烷光刻胶，结合光致产酸剂形成协同机制：有机基团提升光敏性和稳定性，光致产酸剂促进交联并抑制降解。结论显示该光刻胶实现14纳米分辨率、4.3 mC/cm²灵敏度和360天储存稳定性，性能远超商用氢倍半硅氧烷，为极紫外和电子束光刻提供了可行解决方案。
浙大伍广朋、杭师大邱化玉 ACS Nano：兼具高稳定性和高灵敏度的极紫外和电子束倍半硅氧烷光刻胶
查看文献： Norbornene and Epoxide-Substituted Silsesquioxane Photoresists with High-Sensitivity and Stability
查看期刊：ACS Nano
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