韩国首尔大学《AFM》：基于层层叠加石墨烯薄膜的多层复合膜，用于紫外膜膜应用

背景：极紫外光刻技术需要具备高机械与热稳定性的掩模薄膜，石墨烯因其优异的光学透明度和机械性能成为理想候选材料，但在厚度控制和抗降解方面存在挑战。研究目的：开发一种基于层层叠加石墨烯的多层复合膜，用于极紫外掩模应用，以提升机械性能并保持高透光率。结论：研究成功制备了具有保护性封顶层的多层石墨烯复合膜，实现了纳米级厚度控制，其中10层石墨烯薄膜透光率达92%，杨氏模量为220GPa；集成钼/石墨烯/氮化硅复合结构后，杨氏模量提升29%，断裂载荷提高840%；分子动力学模拟证实机械增强源于石墨烯固有特性；全尺寸掩模薄膜在7纳米氮化硅基底上保持超过90%的极紫外光透过率，表明该结构有望推动极紫外光刻技术的商业化应用。