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Dual Pathways in 222 nm Far-UVC Photodegradation of Sulfonamides: Direct Photolysis and Radical-Mediated Self-Sensitized Oxidation

已完结 10 由 1 发布于 2026/1/3 10:19:45
DOI:10.1021/acs.est.5c13885
作者:Haoxin Li, Huiying Jia, Runze Fan, Wenjun Sun, Yanan Feng, Zifu Li, Xiuwei Ao
文献类型:期刊论文
补充材料:只需要正文
American Chemical Society (ACS)American Chemical Society (ACS)
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