Kinetics model for thermal selective etching of Si1?xGex in F2/Ar
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由 土行孙 发布于 2026/2/13 15:45:45
DOI:10.1116/6.0004634
作者:Yi Chen, Daniel Cho, John Hoang, Nicholas D. Altieri, Ji Zhu, Samantha Tan, Jane P. Chang
文献类型:期刊论文
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American Institute of Physics (AIP)