清华大学&江南大学Sci.Adv.：聚碲氧烷作为EUV光刻胶的理想配方

材料人 2025-07-31 09:10

文章摘要

清华大学化学系许华平教授团队开发出一种基于聚碲氧烷的新型EUV光刻胶，解决了当前EUV光刻胶在吸收效率、反应机制和缺陷控制等方面的挑战。该研究通过将高EUV吸收元素碲引入高分子骨架，利用Te─O键的低解离能实现主链断裂，从而提升光刻胶的灵敏度和均一性。这一成果为下一代EUV光刻胶的设计提供了新思路，有望推动先进半导体工艺的发展。

查看文献： Polytelluoxane as the ideal formulation for EUV photoresist
查看期刊：Science Advances

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