AMI | 梅永丰,石建军、颜光辉综述:面向功能纳米粉末的原子层沉积反应腔设计与表面改性
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2025-08-27 07:00
文章摘要
本文综述了原子层沉积(ALD)技术在功能纳米粉末表面改性中的应用。背景方面,纳米粉末因其大的比表面积呈现独特性质,在多个领域有广泛应用前景,但需要有效的表面改性技术。研究目的上,文章系统总结了粉末ALD技术的最新进展,包括反应腔设计(如流化床和空间ALD)及其在锂电材料、催化剂等领域的应用,旨在解决技术可行性、经济性和可放大生产等挑战。结论指出,未来研究方向包括高通量反应腔设计、ALD与原子层刻蚀协同技术以及在金属粉末中的创新应用。
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