光刻胶领域｜高纯度金刚烷三醇，赋能纳米级芯片制造大格局

本文围绕金刚烷三醇在高端光刻胶领域的应用展开。背景方面，金刚烷三醇凭借其独特的刚性分子结构和多羟基特性，成为纳米级芯片制造中光刻胶材料的关键组成部分。研究目的旨在探讨金刚烷三醇如何通过作为单体、添加剂等不同形式，提升光刻胶在分辨率、灵敏度和抗蚀性等方面的性能，并分析其在DUV和EUV光刻技术中的适配性。结论显示，金刚烷三醇及其衍生物在突破光刻胶分辨率极限、支持3nm以下制程芯片制造方面展现出巨大潜力，且国内已在研发和量产工艺上取得进展，助力光刻材料供应链的自主可控。