Light | 极弱扰动！极端约束光场的近场成像与表征

背景：纳米尺度光-物质相互作用和超分辨光学成像等领域中，极端空间约束光场具有重要作用，但传统扫描近场光学显微镜在表征亚10nm约束光场时存在探针扰动和信号衰减等问题。研究目的：本研究旨在利用光发射电子显微镜（PEEM）实现纳米狭缝中极端约束光场的无扰动近场成像与表征，并识别样品缺陷。通过组装具有1nm中央狭缝的耦合纳米线结构，在飞秒光激发下成功观测到纳米狭缝模式形成的驻波图案，实验与理论高度吻合。结论：PEEM技术能有效实现极端约束光场的弱扰动表征，并可灵敏识别纳米级缺陷，为发展基于极端约束光场的光学技术和器件奠定了基础。