新技术,3D纳米打印,登上Nature!
纳米人
2025-12-18 12:02
文章摘要
背景:对复杂三维纳米结构的需求日益增长,双光子光刻(TPL)因其高分辨率成为关键技术,但受限于传统光学视场和并行化时的邻近效应,制约了其吞吐量和扩展性。研究目的:为克服这些限制,研究者开发了一种基于超透镜阵列的并行化3D纳米光刻平台,旨在实现厘米级写入面积上的高分辨率、高吞吐量制造。结论:该平台利用超透镜阵列产生超过12万个可独立调控的焦斑,结合空间光调制器实现自适应图案化,实现了超过每秒1亿体素的超高吞吐量和113纳米的最小特征尺寸,并能高效制造复杂非周期结构和功能性超材料,展示了在微电子、生物医学等领域实现晶圆级生产的潜力。
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