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研究前沿：复旦大学周鹏/刘春森团队，二维半导体-晶圆级单层介电材料- | Nature Materials

今日新材料 2026-01-14 11:30
文章摘要
背景：随着金属氧化物半导体场效应晶体管的持续微缩，采用超薄二维沟道材料成为一种可行策略，但实现亚1纳米电容等效厚度的稳健介电集成仍具挑战。研究目的：复旦大学刘春森和周鹏团队旨在开发一种可扩展的方法，在二维半导体上集成超低电容等效厚度的介电质层。结论：研究通过MoS₂转化制备了晶圆级单层MoO₃，可与原子级薄半导体无缝集成，并作为介电层实现了低至0.64纳米的电容等效厚度，顶栅晶体管展现出高开关比和陡峭亚阈值摆幅，器件阵列良率达92.2%，栅极漏电流符合低功耗标准，标志着该技术向未来工业应用迈出了关键一步。
研究前沿：复旦大学周鹏/刘春森团队，二维半导体-晶圆级单层介电材料- | Nature Materials
查看文献： Wafer-scale monolayer dielectric integration on atomically thin semiconductors
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