研究前沿：香港城市大学蔡定平/彭慧芝团队，光刻对准-连续体中的束缚态BIC | Nature Photonics

背景：随着芯片堆叠技术的发展与器件特征尺寸的持续缩小，复杂多层半导体制造对更高的对准精度与工艺稳定性提出了迫切需求。传统光学成像类多重曝光对准技术受限于光学衍射极限。研究目的：香港城市大学团队提出了一种基于光学物理现象——连续体中的束缚态的新方法，旨在实现超越衍射极限的对准精度。结论：该方法将尺寸小于波长的纳米结构集成于传统十字对准标记旁，通过调控面外不对称性引发BIC向准BIC的转变，其谐振现象的有无及品质因子的变化为纳米级位置变化提供了灵敏度量。实验验证了该方法的有效性，表明其可与标准光刻工艺集成，提供一种可扩展、与CMOS技术兼容的高精度纳米对准解决方案。