[文献速递Vol.319]-技术参数对基于金属酞菁的非富勒烯受体光敏结构特性的影响

本研究背景基于有机半导体材料在光电器件中的应用优势，特别是金属酞菁类化合物如CuPc的高稳定性和载流子迁移率，以及非富勒烯受体PTCDA相比富勒烯衍生物的能级可调和成本优势。研究目的是优化CuPc/PTCDA平面异质结光敏结构的真空热沉积工艺参数（基底温度和活性层厚度），以提升薄膜质量和光电性能。结论表明，CuPc和PTCDA的最优沉积温度分别为60℃和55℃，此时薄膜均匀性最佳；CuPc是光电流的主要贡献者，PTCDA因激子扩散受限贡献较小；CuPc最佳蒸发质量为25mg，光电流达170nA，过厚会导致性能下降。该结构在1.35–2.45eV波段具有高效响应，为低成本、高性能有机光电探测器在通信和医疗等领域的应用提供了支撑。