原子级加工之团簇模式：叠落满天星

本文围绕原子级制造这一新兴领域展开讨论。背景方面，文章指出原子级制造作为未来高端制造的关键方向，正受到学术界和产业界的广泛关注，特别是在芯片制造等精密加工领域，微纳加工技术正向原子级精度推进。研究目的上，文章旨在探讨原子级制造的核心要素，并重点分析原子级加工技术（如原子层沉积ALD、原子层刻蚀ALE等）面临的三大瓶颈问题：界面扩散/腐蚀、损伤缺陷和加工局域性。结论部分，文章提出南京大学宋凤麒教授团队倡导的“原子级团簇模式”作为一种潜在的解决方案，该模式利用原子团簇的非遍历性、稳定性可选择等特性，有望在抑制反应损伤、实现局域扩展加工方面发挥独特优势，从而为原子级制造提供新的技术路径。